Óxido de silicio
Materiales de Evaporación por Deposición Física de Vapor

Los metales, óxidos, tierras raras y compuestos de alta pureza PhotonExport se procesan, refinan y purifican a partir de materia prima para cumplir con los requisitos científicos y las aplicaciones tecnológicas más exigentes. Las instalaciones de sala limpia, los hornos de mufla o de tubo y el equipo de caracterización de precisión aseguran que se cumplan las calificaciones para semiconductores, electrónica, deposición, fibra óptica y Epitaxia por Haz Molecular (MBE por sus siglas en inglés) (hasta 99, 9999%).

Los procesos más comunes para formar capas de películas delgadas son la evaporación térmica y la evaporación por haz de electrones.

La deposición física de vapor térmico (pvd por sus siglas en inglés) tiene el beneficio de una implementación simple y de consumir pequeñas cantidades de materiales, muy valorados para la deposición de metales preciosos. La alta energía del proceso del haz de electrones permite la evaporación de los óxidos cerámicos lo que se ha convertido en un estándar en la industria oftálmica para formar el revestimiento antirreflectante AR sobre vidrio, CR9 u otras lentes de policarbonato.