Equipo de Grabado RIE ICP

Adaptabilidad de la química del proceso

Los productos químicos fluorados y/o clorados pueden mezclarse en el proceso sin que se produzca una contaminación cruzada.

Versatilidad del tamaño del sustrato

Nuestro equipo ofrece una flexibilidad incomparable en cuanto al tamaño del sustrato. Los usuarios pueden cambiar fácilmente entre sustratos de 2 pulgadas, 4 pulgadas, 6 pulgadas u 8 pulgadas, garantizando una amplia gama de aplicaciones y adaptabilidad a proyectos diversos.

Bajo mantenimiento del reactor

Nuestro Equipo de Grabado RIE ICP está meticulosamente diseñado para garantizar un procesamiento libre de contaminación. Con capacidades de limpieza de plasma in-situ, mantiene un nivel impresionantemente bajo de mantenimiento del reactor. Esto se traduce en menos tiempo de inactividad y una mayor productividad en sus operaciones.

Software que le da el control

Tome el control de sus procesos con nuestro avanzado software de control. Los módulos se pueden adaptar para funcionar tanto en procesamiento de plasma de onda continua como en procesamiento de plasma pulsado, ofreciendo una flexibilidad y precisión inigualables.