Forno Horizontal Pequeno

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CARACTERÍSTICAS DO PEQUENO FORNO HORIZONTAL

O tubo de quartzo do FORNO HORIZONTAL PEQUENO pode sintetizar uma ampla gama de materiais de fontes gasosas, vapor, líquidas e sólidas. Pode aquecer até 1200 Cº com uma precisão de 0,5 por cento. Ele também tem a opção de aumentar a temperatura e atualizar para um reator CVD assistido por plasma (PECVD). O magnetron sputtering é uma técnica de revestimento a vácuo de alta taxa que permite a deposição de uma ampla gama de materiais, incluindo metais e cerâmicas, no material do substrato através da aplicação de um campo magnético especialmente formado ou de uma corrente direta a um alvo de sputtering catódico. As máquinas disponíveis são dedicadas tanto à P&D quanto à produção. O substrato é posicionado em um estágio de rotação de vários eixos para garantir alta uniformidade de deposição, com possibilidade de injeção de gás para pulverização reativa ou aquecimento até 600 Cº. Para a produção, as peças industriais a serem revestidas são posicionadas em suportes planetários para garantir grandes quantidades de substratos

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