En
Es
Pt
Ru
Tr
Menu
Produtos
ALVOS de pulverização catódica
Materiais para Revestimentos Ópticos
Óxidos de titânio
Óxidos de zircônio
Óxidos de alumínio
Óxidos de silício
Óxidos de índio e estanho
Óxidos de tântalo
Óxidos de nióbio
Titanato de lantânio
Fluoreto de magnésio
Seleneto de zinco
Sulfeto de Zinco
Cromo
Materiais de evaporação
Fontes de evaporação
Fontes e filamentos de evaporação
Quartz Crystal Monitor
Substratos
Vidro Técnico
Wafers de silício e cristal
Óptica
Lentes
Separadores de feixe
Espelhos
Filtros ópticos
Janelas ópticas
Prismas
Serviços
Serviços de Solda de Alvos
Reciclagem de Alvos
Serviços analíticos e qualidade
Equipamentos
Etching (Decapagem)
PECVD
Deposição física em fase vapor (PVD)
Monitor de Cristais de Quartzo para Filmes Finos
Microscopia SEM & TEM
Bench Coater para Microscopia Electronica e Preparação de Amostra
INDÚSTRIAS
Indústria Oftálmica e de óptica de precisão
Investigação Científica
PVD Decorativo
Revestimentos duros de metal em PVD
Semicondutores
Solar
Tribologia
Tecnologia
Filmes Finos
Recursos-Blog
Recursos técnicos
White paper: Material Chart Deposition Techniques
Catalogs & Technical PapersBrochure Ramp-Up Consideration
Especificação de ligação de brochura
Brochure Ramp-Up Consideration
Catálogo de Alvos de Sputtering
Tendências científicas sobre filmes finos
Certificação ISO9001
Technical Specification: Fused Silica: Corning 7980
Especificação técnica Cerâmica / Vidro: Vidro de Expansão Ultra Baixa (ULE)
Technical Specification: Ceramic/Glass ROBAX
Technical Specification: Fused Silica: Corning 7980
Recursos-Blog
Empresa
Contato
Visão
Mundo da fotônica
×
Produtos
ALVOS de pulverização catódica
Materiais para Revestimentos Ópticos
Óxidos de titânio
Óxidos de zircônio
Óxidos de alumínio
Óxidos de silício
Óxidos de índio e estanho
Óxidos de tântalo
Óxidos de nióbio
Titanato de lantânio
Fluoreto de magnésio
Seleneto de zinco
Sulfeto de Zinco
Cromo
Materiais de evaporação
Fontes de evaporação
Fontes e filamentos de evaporação
Quartz Crystal Monitor
Substratos
Vidro Técnico
Wafers de silício e cristal
Óptica
Lentes
Separadores de feixe
Espelhos
Filtros ópticos
Janelas ópticas
Prismas
Serviços
Serviços de Solda de Alvos
Reciclagem de Alvos
Serviços analíticos e qualidade
Equipamentos
Etching (Decapagem)
PECVD
Deposição física em fase vapor (PVD)
Monitor de Cristais de Quartzo para Filmes Finos
Microscopia SEM & TEM
Bench Coater para Microscopia Electronica e Preparação de Amostra
INDÚSTRIAS
Indústria Oftálmica e de óptica de precisão
Investigação Científica
PVD Decorativo
Revestimentos duros de metal em PVD
Semicondutores
Solar
Tribologia
Tecnologia
Filmes Finos
Recursos-Blog
Recursos técnicos
White paper: Material Chart Deposition Techniques
Catalogs & Technical PapersBrochure Ramp-Up Consideration
Especificação de ligação de brochura
Brochure Ramp-Up Consideration
Catálogo de Alvos de Sputtering
Tendências científicas sobre filmes finos
Certificação ISO9001
Technical Specification: Fused Silica: Corning 7980
Especificação técnica Cerâmica / Vidro: Vidro de Expansão Ultra Baixa (ULE)
Technical Specification: Ceramic/Glass ROBAX
Technical Specification: Fused Silica: Corning 7980
Recursos-Blog
Empresa
Contato
Visão
Mundo da fotônica
×
Home
/
Recursos-Blog
/
Catalogs & Technical PapersBrochure Ramp-Up Consideration
/
Especificação técnica Cerâmica / Vidro: Vidro de Expansão Ultra Baixa (ULE)
Especificação técnica Cerâmica / Vidro: Vidro de Expansão Ultra Baixa (ULE)
Aviso: Este conteúdo necessita do JavaScript.