Кремневые пластины

 

PhotonExport предоставляет небольшое количество кремневых и кристаллических пластин, представленных ниже более детально.Кремневые пластины

Характеристики:

Выберите характеристики, перечисленные ниже. У нас нет минимального объём заказа.

  • SSP: Односторонняя полировка
  • DSP: Двусторонняя полировка
  • Толщина от сверхтонкой пластины в 2 микрона до более толстой
  • Легированный фосфором, легированный донорной примесью или нелегированный
  • Выберите стандартное расположение по примеру (100) или (110) или (111). Свяжитесь с нами для проверки расположения и гарантии положительных результатов.

Доступные диаметры

кремниевая подложка 25.4 мм,  кремниевая подложка 50.8 мм, кремниевая подложка 76.2 мм, кремниевая подложка 100 мм, кремниевая подложка 125 мм, кремниевая подложка 150 мм, кремниевая подложка 200 мм, кремниевая подложка 300 мм, кремниевая подложка 450 мм.

Термоокиселовые кремневые пластины

Термоокисел (SiO2)

Диапазон диаметра от 25.4 мм до 300 мм.

Доступная толщина от 200 ангстрем (Å) to 15 µm

Нитридкремниевые пластины

Стехиометрическое LPCVD (химическое парофазное осаждение при низком давлении) нитридкремниевыая пластина

PECVD (плазмохимическое осаждение из паровой фазы) нитридкремниевыая пластина (осаждение при низких температурах)

Обычно поставляется для использования интегрированной фотоники.

Пластины из арсенид галлия-индия

Пластины из арсенид галлия-индия

Мы поставляем монокристалы из InGaAs.

InGaAs преимущественно используется для инфракрасных детекторов. В других его применениях используются лавинные фотодиоды, некоторые из самых быстрых транзисторов и фотоэлектрические устройства с тройным соединением.

Обычно поставляется для использования интегрированной фотоники.

Пластины из фосфида индия

Доступные диаметры: 2″ 3″

Для использования интегрированной фотоники.

Кристаллические пластины

Характеристики

Выберите ваше расположение

(100), (001), (111), (110) для кубических и четырехугольных кристаллов

(0001), (1102), (1120), (1010) для шестиугольных кристаллов

Другое расположение доступно при более высоком значении индекса Миллера или вицинальной подложке.

Точность расположения: ± 0.5°, среднее значение < 0.3°, или лучше на заказ

Выберите стандартный размер:

5 мм x 5 мм 10 мм  x 10 мм , 10 мм  x 5 мм , 15 мм  x 15 мм

12,7 мм  x 12,7 мм , 20 мм  x 20 мм , 25 мм  x 25 мм , ø1″, ø2″

Допустимое горизонтальное отклонение: +0/-0.05 мм

Стандартная толщина:

0.5 мм, 1.0 мм, другие значение вплоть до 0.1 мм на заказ

Допустимое вертикальное отклонение: +/- 0.05 мм, или лучше на заказ

Полировка:

Полировка одной или двух сторон (эпитаксия)

Качество поверхности: без царапин при увеличении в 50 раз

Микронеровности (измеренная интерференционным микроскопом))
(разрешение по плоскости: 0.65 µm, теоретическое вертикальное разрешение от 0.01 нм)
Неровности: ( без λ =0.08 мм)
Ra: < 0.5 нм
Rq : < 1.0 нм

Rt : < 2.0 нм

Кристаллы в наличии:

Алюминий,  CeO2, GdScO3, LiF, PbSe, Tb-Dy-Fe (GММ), Al2O3 (сапфир), CdS, GGG, MgAl2O4 (шпинель), PbTe,   W (поликристалл),  AlN, CdSe, графит, Mg, SrTiO3, WS2, Ag, CdTe(HgCdTe), InAs, MgF2, Nb:SrTiO3 , WSe2,  Au, CdZnTe, InP, MgO, SrLaAlO4, WTe2, покрытие Au/Cr, SiO2/Si, CsI (TI), InSb, диски из слюды, SrLaGaO4, BaF2, DyScO3, KCl, Mo (поликристалл), SiO2 (кварц ), YAlO3  (YAP),  BaTiO3, бриллиант , KH2PO4, MoS2, SiC (4H, 6H, 3C), YAG , Bi2Se3, Бриллиантовая эпитаксиальная пленка на кремнии,  KTN, MoSe2, SBN, YIG,  Bi2Te3, Fe (SS-Poly), KTaO3, MoTe2, Si,  YVO4, Bi4Ge3O12(BGO12), Fe2O3, LaAlO3, NaCl, Si-Ge,  YSZ, Bi12GeO20(BGO20), Fe3O4, LaF3, NaBi(WO4)2,     SOI, ZnO, BN (h), Ga2O3-ß, La3Ga5SiO14, NdCaAlO4, SOS, черный фосфор, GaAs, LiAlO2,  никель (единичный xtl), Ti (поликриталл), ZnS,CaF2, GaN, LiGaO2, NdGaO3, TiO2(октаэдрин),  Zn, C (монокристал), GaSe, LSAT, PBN, TiO2 (рутил), ZnSe, CaCO3 (Calcite),  GaP, Li, ПЭТ-плёнка, Ta, ZnTe,Cu, GaTe, LiNbO3, PbWO4, TGG, Zr, Ce:Lu2SiO5, GaSb, LiTaO3, PMNT, TeO2, лист с нулевым преломлением, CdWO4, Ge, Lu2SiO5 : Ce, PbS, TbScO3, двухмерный кристалл.

Если вы не находите то, что вас интересует, свяжитесь с нами для решения этого вопроса.

Керамические пластины:

PhotonExport предоставляет подложки из окиси алюминия (Al2O3), диоксида циркония (ZrO2) и нитрида алюминия (AlN).

Подложки из Al2O3 часто используются благодаря их крайне высоким показателям механической прочности и жаростойкости. Свойства включают в себя очень небольшие диэлектрические потери, благодаря которым подложки из данных материалов отлично подходят для микроэлектронных установок с высокими эксплуатационными характеристиками. Высокая износоустойчивость позволяет Al2O3 выступать в качестве хорошего абразивного материала. Поверхность подложки из оксида алюминия является достаточно гладкой и имеет низкую пористость, подложка из 99,6% оксида алюминия подходит для изделий из тонкой пленки, подложка из 96% окиси алюминия подходит для применения устройства из тонкой пленки.

DescriptionAl2O3 Wafer Type 1Al2O3 Wafer Type 2Al2O3 Wafer Type 3Al2O3 Wafer Type 4
Purity (wt%)0.9699.6%99.6%99.9%
Density (g/cm3)> 3.753.883.873.92
Thermal conductivity (W/m. K)2434.73535
Thermal Expansion (x10-6/oC)< 7.77~8.37~8.38.1
Dielectric Strength (Kv/mm)> 1423.6423.648.7
Dielectric Constant (at 1MHZ)9.89.99.99.8
Loss Tangent (x10-4 @1MHZ)411< 1
Volume Resistivity (ohm-m)> 1013 @ 20 Cº; > 3x107 @ 500 Cº> 1014 @ 25 Cº; > 109 @ 500 Cº> 1014 @ 25 Cº; > 1010 @ 500 Cº> 1015 @ 25Cº; 1012 @ 500 Cº
Flexural Strength (N/mm2)>330593621400
Surface Roughness (micron)as fired 0.3 as lapped 0.075 as polished 0.025