Melhore seus processos de semicondutores com os sensores SemiQCM™ SR para monitoramento preciso de precursores.
O sensor SemiQCM™ SR é uma parte fundamental de um sistema projetado para monitoramento preciso de precursores, funcionando em conjunto com o IMM-200 e o FabGuard (versão 19.12.00-a ou superior).
Ao aproveitar a tecnologia in-situ QCM, esta solução de monitoramento oferece uma maneira econômica de acompanhar os processos semicondutores, garantindo um melhor controle sobre a entrega de precursores na linha de alimentação ou no exaustor da câmara. Ela proporciona um valor significativo ao detectar falhas na entrega de precursores após apenas um wafer, levando a uma maior eficiência do processo e rentabilidade.
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Características
- Monitora dados de QCM a uma taxa de 10Hz
- O FabGuard correlaciona perfeitamente os dados de QCM com o status da ferramenta e as etapas do processo
- Medição altamente precisa das taxas de deposição ou gravação
- Sensibilidade e precisão para medir espessuras sub-monolayer
Benefícios
- Monitoramento de processo em tempo real e in-situ para ajustes imediatos no processo
- Prevenção de sobre-gravação e ajuda a identificar o ponto final para a limpeza da câmara
- Identificação precoce de falhas de equipamentos ou processos para minimizar interrupções
Aplicações Comuns:
• Fabricação de Semicondutores
Este sistema de monitoramento de ponta garante precisão, flexibilidade e confiabilidade excepcionais em aplicações de deposição de filmes finos, tornando-o uma escolha ideal para pesquisa e uso industrial.
Especificações dos Sensores SemiQCM™ SR:
Maximum Temperature | 200°C |
Sensor head Size (Maximum envelope) | 23.87 mm O.D. x 29.19 mm (0.94 in. O.D. x 1.15 in.) |
MATERIALS | |
Body and Holder | 304 stainless steel |
Springs | Au plated BeCu |
Coaxial Line | 5 mm (1.88 in.) O.D. stainless steel |
Other Mechanical Parts | 18-8 or 304 stainless steel, Hastelloy® c276 |
Insulators | >99% Al2O3 in vacuum: Teflon® used elsewhere |
Wire | 1. Ni (in vacuum) 2. Ni plated Cu (elsewhere) |
Braze | Vacuum process high temperature NiCr alloy |
Crystal | 18-8 or 304 stainless steel, Hastelloy® c276 |
Descargue aquí las especificaciones completas
PDF • 48 MB
Transferências
Outros
PDMAT SemiQCM Datasheet
PDF • 997,3 KB • INGLESA
SemiQCM for TDMAT Dimensions
PDF • 199,9 KB • INGLESA
TDMAT Precursor Monitoring with a Quartz Crystal Microbalance Application Note
PDF • 1,3 MB • INGLESA
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