Полупроводники

 

wafer semiconductorМы предлагаем широкий спектр материалов и мишеней специально разработанных на основе жестких требований современных приложений в таких областях, как диэлектрик с высокой проницаемостью, микроэлектромеханические системы (MEMS), оптоэлектроника и прямое подключение интегральной схемы (IC).

Наши материалы и мишени могут быть использованы в большинстве систем термовакуумного осаждения тонких плёнок (OEM), благодаря нашим обширным предложениям разнообразных размеров и форм.

 

 

Materials Formula Purities
Aluminium Oxide Al2O3 99% to 99.999%
Cerium Oxide CeO2 99.9%
Chrome Cr 99% to 99.999%
Copper Cu 99.99% to 99.999%
Copper Aluminium Silicium Cu Al Si 99.9%
Gold Au 99.95% to 99.999%
Hafnium Hf 99.9% to 99.99% (Zr<0.25%)
Hafnium Aluminium Oxide Hf Al2O3 99.9%
Hafnium Oxide HfO2 99.95% (Zr<0.25%)
Magnesium Fluoride / Chrome MgF2 Cr 99 % to 99.95%
Magnesium Oxide MgO 99.9%
Nickel Ni 99.6% to 99.995%
Niobium Nb 99.95%
Niobium Oxide NbO2 99.95 % to 99.995%
Praseodymium Oxide PrO2 99.9%
Silver Ag 99.9% to 99.99%
Tantalum Ta 0.99995
Titanium Ti 99.8 % to 99.995%
Tungsten Titanium (90:10) W 99.9% to 99.99%
YAG (Yttrium Aluminium Garnet Y3Al5O12) Y3Al5O12 99.9%
Zirconium Oxide ZrO2 99.95% to 99.995%