Photon Export Oficial e representante autorizado na Europa tem as melhores máquinas como : deposição de camada atômica (ald).
RECURSOS DO deposição de camada atômica – ALD
O processo ALD consiste no crescimento de filmes finos por camadas atômicas consecutivas.
ALD é a técnica mais avançada em revestimento de filmes finos devido ao controle preciso da espessura do filme (nm) que oferece. Ele também fornece uniformidade e conformidade de filme em qualquer escala.
Os filmes produzidos por esta técnica são densos, isentos de pinholes e sem defeitos, e as condições em que o processo ocorre, 1-10 hPa 200-400ºC, são suaves para substratos sensíveis.
Esta empresa oferece soluções para P&D para até 200mm único wafer com temperatura de processamento 50-500ºC e Al2SO3, TiO2 ou SiO2 entre outros processos típicos.
Também possui máquinas para pequenos e grandes itens 3D com especificações semelhantes.
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