O Bench Coater para metalizar amostras de microscopia eletrónica SEM (microscopia eletrónica de varrimento) e TEM (microscopia eletrónica de transmissão) com o preço mais competitivo do mercado.
Os sistemas de deposição de Denton Desk V são ferramentas altamente produtivas, oferecendo resultados excecionais, repetitivos e consistentes para microscopia eletrónica de varrimento (SEM) e preparação de amostras de microscopia eletrónica de transmissão (TEM).
Os revestimentos habituais são de Ouro, Ouro/Paládio, Platina ou carbono, seja com fio de carbono ou varas de carbono. (Consumíveis fornecidos pela PhotonExport)
Para cobrir as necessidades e padrões exigentes, são oferecidas duas versões: sistemas de bombas rotativas ou turbo-moleculares. O Desk V HP está equipado com uma bomba rotativa que atinge as pressões do processo de 50 mtorr para pulverização por CC com metais nobres (não oxidantes), pulverização de carbono, revestimento de fibra de carbono e gravura de íons para pré-limpeza de amostras. Bombas de vácuo mais potentes como turbo moleculares são oferecidas para aplicações onde é necessária uma menor contaminação do sistema de vácuo ou maior vácuo.
O Desk V TSC é o sistema turbo de bombeamento molecular, unidade de alta resolução, equipado com câmara de aço inoxidável, adequado para metais oxidantes e não oxidantes.
VERSÁTIL E FÁCIL DE UTILIZAR
O Desk V permite depositar uma ampla gama de materiais (incluindo o irídio). Os revestimentos obtidos são altamente uniformes com excelente conformidade e cobertura. O equipamento tem um desenho de estágio único que permite a rotação com inclinação variável. A altura pode ajustar-se desde 90 mm até 130 mm para o controle preciso da distância da fonte ao substrato. Graças à sua tela sensível ao toque de 6″, a tabela de amostras é fácil de alterar. Graças ao design plug and play, o Desk V é um sistema avançado e fácil de usar, pensado para os investigadores científicos muito ocupados, utilizando os microscópios mais complexos. O display permite ajustar os parâmetros da bomba, do tempo de revestimento, os ajustes do vácuo e a entrada de gases.
O Desk V é capaz de armazenar e executar até 10 receitas de revestimento pré-definidas, garantindo ainda maior consistência, precisão, repetibilidade e uniformidade das camadas depositadas.
ADEQUADO PARA CADA APLICAÇÃO
O sistema Desk V é oferecido com várias opções e acessórios para cobrir todas as possíveis necessidades de microscopia eletrónica. Uma vasta escolha de sistemas de vácuo – de várias bombas rotativas rotativas e secas, ao sistema turbo de bombeamento molecular com câmara de aço, para aplicações mais exigentes.
Uma série de estágios de amostra para atender a maioria dos requisitos começa a partir do estágio estático e da tabela de gravação com o obturador fornecido como padrão. É oferecida uma cobertura de amostra superior, tabela de inclinação e rotação e para substratos de até 100 mm de altura. Além da cabeça de espirais de magnetron fornecida como padrão, estão também disponíveis hastes de carbono e cabeças de haste de carbono.
Para leitura da espessura em tempo real, existe um monitor de espessura de filme opcional.
| Desk V Opções | Desk V HP | Desk TSC |
|---|---|---|
| DC Magnetron Sputteting (100mA) | S | S |
| Evaporação de Rod de Carbono | O | O |
| Evaporação de fio de carbono | O | O |
| Tabela de gravura com obturador permitindo pré-limpar amostras antes da deposição | S | S |
| Mesa inclinável e rotativa (sem habilidade para pulverizar amostras de etch) | O | O |
| Substrato de até 100 mm de diâmetro com o obturador (não disponível com a opção do monitor de espessura) | O | O |
| Tela sensível ao toque colorida do PLC para monitorar e alterar o processo em tempo real | S | S |
| Armazenamento para até 10 receitas pré-definidas | S | S |
| Câmara de processo de vidro de 150 mm de diâmetro | S | N/A |
| Câmara de aço inoxidável de 150 mm de diâmetro | O | S |
| Turbo bomba molecular para obter pressão de base em 10e-6 torr | N/A | S |
| Metais oxidantes e não oxidantes por pulverização catódica para revestimentos de alta resolução | N/A | S |
| Capacidade de definir set-points de pressão | N/A | S |
| Monitor de espessura de filme para leitura em tempo real de espessura | O | O |
| Bomba mecânica para atingir 50 mTr de pressão do processo | S | S |
| Bomba de rolagem a seco (sem óleo) para reduzir os contaminantes no sistema de vácuo | O | O |
| S - disponível em padrão, O - opção, N / A - não disponível | ||
APLICAÇÕES
- Preparação da amostra SEM (Sputtering)
- Preparação da amostra SEM (Evaporação de Carbono)
- Preparação de amostra de alta resolução
- Preparação da amostra TEM
- Semicondutores
- Geologia
- Forense
- Ciência de materiais
- Remédio
- Ciência da vida
Mais Info:
