Photon Export Official Representative in Equipment Brans from Spain and Portugal, temos as melhores máquinas como: reactive ion etching.
Recursos do reactive ion etching
A gravura iónica reactiva é um processo que remove quimicamente materiais de substratos usando bombardeamento iónico.As principais vantagens da utilização deste processo são que fornece gravura direccional ao mesmo tempo que é muito mais forte do que o plasma isotrópico.Uma das muitas aplicações da RIE é o fabrico de hologramas gerados por computador (CGH) de grande área, bem como a gravura de máscaras.É também útil em processos envolvendo PEVD de Diamante Nano-Cristalino com aplicações directas em revestimentos anti-reflexo, protecção de lentes, protecção mecânica das ferramentas (devido à elevada dureza) e catalítica activação.
Os sistemas fornecidos são um sistema de processamento de plasma de alta densidade de grande área ou RIE e PECVD e fornece excitação independente do plasma e polarização do substrato RF. O sistema apresenta arrefecimento e substrato de substrato aquecimento, orientação do substrato de face para cima ou para baixo, bloqueio automático de vácuo para orientação do substrato, escalável para diferentes tamanhos de substrato, temperatura de controlo da câmara e espectrómetro de emissão óptica. Diferente estão disponíveis opções, dependendo do tamanho do substrato.
SE VOCÊ QUER SABER MAIS SOBRE NOSSOS EQUIPAMENTOS CLIQUE AQUI PARA DESCOBRIR.