Photon Export Official и уполномоченный представитель в Европе имеет лучшие машины, такие как: осаждение атомных слоев (ald)
ALD – атомно-слоевое осаждение
Процесс ALD состоит из выращивания тонкой пленки последовательными атомными слоями.
ALD является наиболее передовым методом тонкопленочного покрытия благодаря точному контролю толщины пленки (нм), который он предлагает. Он также обеспечивает однородность и конформность пленки в любом масштабе.
Пленки, полученные этим методом, плотные, без отверстий и дефектов, а условия, при которых протекает процесс, 1-10 гПа, 200-400ºC, щадящие чувствительные подложки.
Эта компания предлагает решения для НИОКР размером до 200 мм.
одиночная пластина с температурой обработки 50-500 ºC
и Al2SO3, TiO2 или SiO2 среди других типичных процессов.
У него также есть машины для малых и больших 3D-элементов с
аналогичные спецификации. 