Ofrecemos una amplia gama de materiales y cátodos especialmente desarrollados en base a los estrictos requisitos de aplicaciones avanzadas como por ejemplo en uso de alta constante dieléctrica K, sistemas micro-electromecánicos (MEMS), optoelectrónica e interconexiones de circuitos integrados (IC).
Nuestros materiales y cátodos se pueden utilizar en la mayoría de los sistemas OEM de deposición de película delgada al vacío gracias a nuestra amplia oferta de tamaños y formas variadas.
| Materiales | Formula | Purezas |
|---|---|---|
| Óxido de aluminio | Al2O3 | 99% a 99.999% |
| Óxido de cerio | CeO2 | 99.9% |
| Cromo | Cr | 99.8% a 99.95% |
| Cobre | Cu | 99.99% a 99.999% |
| Cobre Aluminio Silicio | Cu Al Si | 99.9% |
| Oro | Au | 99.95% a 99.999% |
| Hafnio | Hf | 99.9% a 99.99% (Zr<0.25%) |
| Hafnio óxido de aluminio | Hf Al2O3 | 99.9% |
| Óxido de hafnio | HfO2 | 99.95% (Zr<0.25%) |
| Fluoruro de magnesio / cromo | MgF2 Cr | 99 % a 99.95% |
| Óxido de magnesio | MgO | 99.9% |
| Níquel | Ni | 99.6% a 99.995% |
| Niobio | Nb | 99.95% |
| Óxido de niobio | NbO2 | 99.95 % a 99.995% |
| Óxido de praseodimio | PrO2 | 99.9% |
| Plata | Ag | 99.9% a 99.99% |
| Tantalio | Ta | 99.995 % |
| Titanio | Ti | 99.8 % a 99.995% |
| Tungsteno ( 90:10 ) | W | 99.9% a 99.99% |
| YAG (granate de itrio y aluminio) | Y3Al5O12 | 99.9% |
| Óxido de circonio | ZrO2 | 99.95% a 99.995% |