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Investigación Científica

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Recubrimientos duros de metales por PVD

Los recubrimientos protectores contra el desgaste se pueden usar para prensado de chapa, conformado de acero, fundiciones de aluminio y para la producción de piezas y componentes de máquinas que req...

PVD decorativo

PVD decorativo La deposición física en fase vapor (PVD) es un recubrimiento de  metalización en vacío, que además de ecológico, tiene claros beneficios relacionados con los colores, la textura, la ...

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Substratos de Vidrio Técnico, Obleas de Silicio y Cristales

El vidrio estándar a base de vidrio sódico o arena de sílice representa el 90% de la oferta de vidrio. Para formar vidrio de borosilicato necesitamos agregar ácido bórico (B2O3), alúmina y cenizas de sosa al fundido de sílice. La baja expansión térmica (3,3 × 10−6 K − 1) es la propiedad principal del vidrio de borosilicato. De acuerdo con el contenido de SiO2 y el contenido de tierra alcalina, hay tres grupos de vidrio de borosilicato. El grupo de vidrio de borosilicato de tierra no alcalina o borosilicato 3.3 tiene alrededor del 12% de B2O3. El grupo de vidrios de borosilicato de tierra alcalina tiene menos contenido de ácido bórico y SiO2 y 5% de tierra alcalina y /o alúmina como el vidrio de aluminoborosilicato. Los vidrios de borosilicato de alto contenido de borato contienen del 15 al 25% de B2O3, del 65% al 70% de SiO2 y cantidades más pequeñas de álcalis y alúmina y tienen bajos puntos de reblandecimiento y baja expansión térmica, pero reducen la resistencia química.

Photon Export propone todo tipo de sustratos de vidrio de borosilicato de líderes mundiales en vidrio especializado como Schott, Corning, GE, Ohara, Hearaus y HOYA. Se realizan todas las formas, cortes y especificaciones de pulido: desde cuadrados estándar, hasta obleas de silicio o componentes ópticos para el investigador científico de fotónica. La sílice fundida, la oblea de silicio, el cristal de zafiro u otros cristales monocristalinos o policristalinos completan la cartera de sustratos.

-Substratos: Soda Lime o Vidrio Borosilicato, Obleas y Cristales
Materiales de Evaporación por Deposición Física de Vapor

Los metales, óxidos, tierras raras y compuestos de alta pureza PhotonExport se procesan, refinan y purifican a partir de materia prima para cumplir con los requisitos científicos y las aplicaciones tecnológicas más exigentes. Las instalaciones de sala limpia, los hornos de mufla o de tubo y el equipo de caracterización de precisión aseguran que se cumplan las calificaciones para semiconductores, electrónica, deposición, fibra óptica y Epitaxia por Haz Molecular (MBE por sus siglas en inglés) (hasta 99, 9999%).

Los procesos más comunes para formar capas de películas delgadas son la evaporación térmica y la evaporación por haz de electrones.

La deposición física de vapor térmico (pvd por sus siglas en inglés) tiene el beneficio de una implementación simple y de consumir pequeñas cantidades de materiales, muy valorados para la deposición de metales preciosos. La alta energía del proceso del haz de electrones permite la evaporación de los óxidos cerámicos lo que se ha convertido en un estándar en la industria oftálmica para formar el revestimiento antirreflectante AR sobre vidrio, CR9 u otras lentes de policarbonato.

-Materiales de Evaporación al Vacío
Blancos de Pulverización Catódica: Usos y proceso de fabricación 

La pulverización catódica es un proceso de deposición física de vapor para formar películas delgadas. El espesor de las capas formadas varía desde unos pocos nanómetros hasta varios micrómetros. La pulverización catódica por PVD consiste en la colisión de iones en vacío y un entorno de plasma bajo un fuerte campo magnético con la finalidad de extraer átomos del blanco y hacer crecer gradualmente una película delgada sobre el substrato deseado. Los investigadores científicos usan generalmente pequeños discos (rango de diámetro habitual desde 0.25 a 2, 3 o 4 pulgadas) como blancos de pulverización catódica. Sin embargo, hay innumerables formas de blancos como cilindros pequeños, tubos huecos (objetivos giratorios) y placas largas de acuerdo con la aplicación industrial y el proceso de deposición continua o discontinua. El polvo metalúrgico es lo más común para producir la mayoría de targets.

A pesar de que Grove y Faraday fueron los primeros en reportar el fenómeno de la pulverización catódica, fue Edison quien logró presentar la primera patente en 1884, relacionada con un proceso de pulverización catódica por el método de deposición de arco y evaporación térmica desde una superficie sólida. Hoy en día, sectores como la microelectrónica, fotovoltaico, óptico, metal y tribológico utilizan la deposición de películas delgadas de PVD.

-Blancos de Pulverización Catódica