Photon Export Representante Oficial en Equipos de marca de España y Portugal, tenemos las mejores máquinas como: PVD sputtering magnetron.
El sputtering de magnetrón es una técnica de recubrimiento al vacío de alta velocidad que permite la deposición de muchos tipos de materiales materiales, incluidos los metales y la cerámica, sobre tantos tipos de materiales de sustrato mediante el uso de un campo magnético campo magnético especialmente formado aplicado a un blanco de sputtering de diodo. La gama gama de máquinas ofrecidas se dedica tanto a la I+D como a la producción. Proporciona versatilidad debido a la variedad de configuraciones disponibles. Hay diferentes opciones disponibles dependiendo del tamaño de la cámara cilíndrica de eje vertical o del tamaño de la fuente.
Caracteristicas de PVD sputtering magnetron
- Acero inoxidable 304L Diámetro de la cámara interior de 450 mm.
- Configuración de la subida o bajada del sputter.
- Bloqueo de carga disponible (manual o automático) Unidad de bombeo primaria rugosa o seca.
- Unidad de bombeo turbomolecular o criogénica Configuraciones convergentes o planas disponibles:
- Hasta seis fuentes de magnetrón de 100 mm en modo planar.
- Hasta cuatro fuentes de magnetrón de 100 mm en modo convergente. Fuentes de sputtering de 75mm y 100mm disponibles.
- Los cátodos son polarizables RF, DC/DC+ e HIPIMS.
- Amplia gama de soportes para sustratos (refrigerados por agua y/o calentados hasta 800°C), sesgables o no. Hasta 200 mm en modo convergente.
- Controlador semiautomático (AC2000) o supervisor PLC (AC3000).
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