PhotonExport Oficial y representante autorizado en Europa tiene las mejores máquinas como:deposición película atómica (ald)
ALD – deposición película atómica
El proceso ALD consiste en el crecimiento de una película delgada por capas atómicas consecutivas
ALD es la técnica más avanzada en recubrimiento de película delgada debido al control preciso del espesor de película (nm) que ofrece. También proporciona uniformidad y conformidad de la película en cualquier escala.
Las películas producidas por esta técnica son densas, sin poros y sin defectos, y las condiciones en las que se lleva a cabo el proceso, 1-10 hPa 200-400ºC, son suaves para sustratos sensibles.
Esta empresa ofrece soluciones para I+D hasta 200mm oblea individual con temperatura de procesamiento 50-500 ºC y Al2SO3, TiO2 o SiO2 entre otros procesos típicos. También dispone de máquinas para piezas 3D pequeñas y grandes con especificaciones similares.
