IDEAL PARA TODAS LAS APLICACIONES DE METALIZACIÓN DE MUESTRAS DE SEM Y TEM
Los sistemas de deposición de Desk V de Denton son equipos de alta productividad, que permiten tener resultados excepcionales, de alta repetibilidad y consistentes para la microscopía electrónica de barrido (SEM) y la preparación de muestras de microscopía electrónica de transmisión (TEM). Para cubrir las necesidades estándar y de mayor exigencia, se ofrecen dos versiones : un sistema com bomba rotativa y otro con el añadido de una bomba turbo-molecular.
El Desk V HP está equipado con una bomba rotativa que alcanza presiones de proceso de 50 mtorr para pulverización DC con metales nobles (no oxidantes), evaporación de grafito, recubrimiento de fibra de carbono. Posibilita para la limpieza previa de muestras por ion etching. Se ofrece una bomba rotativa de vacío más potentes para aplicaciones donde se requiere una pureza sin contaminación del sistema de vacío aún menor o un vacío más alto.
Desk V TSC es el sistema con bomba turbo, una unidad de alta resolución, equipado con una cámara de acero inoxidable, adecuado para metales oxidantes y no oxidantes. El equipo permite depositar una capa conductora para la preparación de muestras de microscopía electrónica de barrido y transmisión. Se pueden combinar accesorios para de recubrimiento de magnetrón sputtering, evaporación térmica de barill de carbón y fibra de carbono.
VERSÁTIL Y FÁCIL DE UTILIZAR
El Desk V deposita una amplia gama de materiales (incluido el iridio). Los recubrimientos con excelente uniformidad y cobertura están garantizados por un diseño de escenario único, que permite la rotación, el grado variable de inclinación de la mesa y el ajuste de altura de 90 a 130 mm para el control de distancia preciso de fuente a sustrato. Gracias a su pantalla táctil de 6″, cabezales de fuente intercambiables rápidamente y fáciles de cambiar, mesa de muestras y diseño plug and play, el Desk V es un sistema avanzado y fácil de usar para que el investigador cientifico se centre en sel area de microscopista sin perder tiempo con la preparación de muestras.
Los puntos de ajuste de los procesos de bombeo, grabado temporizado y proceso de pulverización catódica para la presión, la potencia, la ventilación y la duración son gestionados por la pantalla intuitiva a todo color. El Desk V es capaz de almacenar y ejecutar hasta 10 recetas de recubrimiento predefinidas, asegurando una mejor consistencia, precisión, repetibilidad y uniformidad de las capas depositadas. Esta programación y almacenamiento de recetas de vanguardia proporciona una conmutación aún más fácil de los materiales y el método de deposición para diferentes muestras.
CONVENIENTE PARA CADA APLICACIÓN
El sistema Desk V se ofrece con varias opciones y accesorios para cubrir todas las necesidades posibles de microscopía electrónica. Amplia selección de sistemas de vacío : desde varias bombas de espiral rotativas y secas hasta un sistema turbo de bombeo molecular con cámara de acero para las aplicaciones más exigentes.
Una gama de etapas de muestras para satisfacer la mayoría de los requisitos comienza desde la etapa estática y la mesa de grabado con el obturador suministrado de serie. Se ofrece una cobertura de muestra superior, una sistema porta muestras con inclinación de angulo posible y giratorio para sustratos de hasta 100 mm de superficie. Se suministra de serie con un magnetrón suministrado y se pueden incluir el cabezal para la evaporación de varillas de grafito e hilos de carbono.
Para la lectura de espesor en tiempo real, hay un monitor de espesor de película opcional.
| Opciones de Desk V | Desk V HP | Desk TSC |
|---|---|---|
| DC Magnetron Sputting (100mA) | S | S |
| Evaporación de varillas de carbono | O | O |
| Evaporación del hilo de carbono | O | O |
| Mesa de grabado con obturador que permite limpiar muestras antes de la deposición | S | S |
| Mesa inclinable y giratoria (sin capacidad para pulverizar muestras de grabado) | O | O |
| Substrato de hasta 100 mm de diámetro con obturador (no disponible con la opción de monitor de espesor) | O | O |
| Pantalla táctil a todo color PLC para monitorear y cambiar el proceso en tiempo real | S | S |
| Almacenamiento para hasta 10 recetas predefinidas | S | S |
| Cámara de proceso de vidrio de 150 mm de diámetro | S | N/A |
| Cámara de acero inoxidable de 150 mm de diámetro | O | S |
| Bomba molecular Turbo para alcanzar la presión base en 10e-6 torr | N/A | S |
| Sputter metales oxidantes y no oxidantes para recubrimientos de alta resolución | N/A | S |
| Posibilidad de establecer puntos de ajuste de presión | N/A | S |
| Monitor de espesor de película para lectura de espesor en tiempo real | O | O |
| Bomba mecánica para alcanzar la presión del proceso de 50 mtorr | S | S |
| Bomba de espiral seca (sin aceite) para reducir los contaminantes en el sistema de vacío | O | O |
| S - disponible en estándar, opción O, N / A - no disponible | ||
APLICACIONES :
- Preparación de muestra SEM (Sputtering)
- Preparación de muestras SEM (Evaporación de Carbono)
- Preparación de muestras de alta resolución
- Preparación de muestra TEM
- Semiconductores
- Geología
- Forense
- Ciencia material
- Medicina
- Ciencias de la vida
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