Dióxido de silicio (SiO2)
El SiO2, conocido como silicio, es un compuesto químico que se puede encontrar en la naturaleza como arena o cuarzo en todas sus variedades.
SiO2 Especificaciones
| Shape | Color | Purity | Package | Storage | ||
| Crystal | Granule | 1-3 mm; 3-5 mm | Colorless Transparent |
99.9% 99.95% 99.99% |
1 Kg/Bag | Avoid exposure to sunlight & acid Keep dry |
| Pillar | e.g.: 2×4 mm | |||||
| Cutting piece | e.g.: 20×10 mm | |||||
Características del SiO2
| CAS Number | Density (g/cm3) | Boiling point (Cº) | Melting point (Cº) | Refractive index at 550 (nm) | Transparency range (µm) | Evaporation source | |
| 7631-86-9 | 2.2 | 2950 | 1700 | 1.45-1.46 | 0.2-9 | E | |
| Applications: | AR coating; Cold light coating; Filter; Insulating coating; Glass coating; UV coating | ||||||
Técnica de evaporación de Dióxido de silicio (SiO2)
| Shape | Color | Purity | Package | Storage | ||
| Sinter | Blocky | 1-40 mm Upon demand |
Black | 99.99% | 1 Kg/Bag | Avoid exposure to sunlight & acid Keep dry |
| Granule | 1-3 mm; 3-5 mm | |||||
| Cuboid piece | 100x100x50 mm | |||||
| Tablet | 28×10 mm, 18×10 mm | |||||
La evaporación por haz de electrones funciona bien para el SiO2 óptico debido a su índice de refracción y se evapora de un revestimiento de crisol de grafito o tantalio. Las películas resultan ser lisas y amorfas con buena adhesión.
Monóxido de (SiO)
SiO es un sólido amorfo, disponible en muchas formas.
Es un material de recubrimiento o pvd material, altamente deseable debido a su alta tasa de deposición y facilidad de evaporación utilizando sistemas de recubrimiento calentados por resistencia de bajo costo.
SiO Especificaciones
Características del monóxido de SiO2
| CAS Number | Density (g/cm3) | Boiling point (Cº) | Melting point (Cº) | Refractive index at 550 (nm) | Transparency range (µm) | Evaporation source | |
| 10097-28-6 | 2.13 | 1880 | 1700 | 1.8-1.9 | 0.4-9 | B (Ta, Mo, W) | |
| Applications: | Cold light coating; Decorative coating; Protective coating | ||||||
Técnica de evaporación
El calentamiento por resistencia en balsas deflectoras es el método de evaporación más común utilizado, pero también se puede utilizar la evaporación por haz de electrones, particularmente con tabletas.
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