La deposición física en fase vapor (PVD) es la producción de películas delgadas y recubrimientos usando diversos métodos que se hacen en vacío o alto vacío. En primer lugar, un material sólido se convierte en un vapor a través de una serie de procesos tales como el calentamiento o la pulverización catódica. Luego la sustancia vaporizada se deposita sobre un objeto receptor, el substrato, creando un revestimiento fino de espesores de algunos átomos (< 10 Å o 0,0001 µm) a 100 µm (el espesor de un cabello).
El proceso PVD se utiliza en la electrónica, óptica, y en casos de aplicaciones químicas y mecánicas cuando se requiere una lámina fina, como por ejemplo:
- Dispositivos Semiconductores (ej. celdas solares de películas finas)
- Instrumentos y accesorios científicos
- Herramientas de fabricación con revestimiento de PVD
- Packaging alimentario (utilizando films PET aluminazados)
- Globos
- Herramientas de corte de trabajo del metal (con revestimientos de metales)
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Equipos para aplicaciones científicas e industriales PVD
PhotonExport suministra herramientas de sobremesa para preparación de muestras SEM (Microscopía Electrónica de Barrido) y TEM (Microscopía Electrónica de Transmisión) o aplicaciones de I+D donde se necesita un sistema de metalización fina para su uso en microscopios y otras herramientas de investigación. Ofrecemos soluciones compactas y costo-efectivas para la realización de láminas delgadas en su laboratorio.
De diámetro hasta 300 mm
Este sistema de láminas delgadas, compacto de acero inoxidable, tiene una gama completa de sistemas de vacío, cámara y accesorios modulares de proceso. Diseñado para cumplir con las estrictas especificaciones de los investigadores y los especialistas en microscopia de electrones, este sistema de recubrimiento de sobremesa es el complemento más adecuado para cualquier solución de revestimiento de laboratorio o centro de investigación que usan sustratos de hasta 300 mm de tamaño.
Lab Coater – Diametro to 500 mm
Este sistema de recubrimiento de sobremesa tiene capacidad para sustratos de gran diámetro de hasta 500 mm con una cámara de carga frontal. Los procesos disponibles incluyen la evaporación de resistencia, haces de electrones y pulverización catódica métodos de vaporización. Tiene capacidad para titulares de sustrato con cúpulas (simple o movimiento planetario) o sustratos de obleas individuales funcionales. Muy adecuado para laboratorios y estudios de investigación y desarrollo o de pre-producción.
Otros sistemas para deposición
Tenemos otros sistemas PVD con mayor mayor capacidad de procesamiento e integración con caja de guantes, así como equipos PVD con posibilidad de revestimiento mediante haz de iones. Podemos realizar configuraciones personalizadas que incluyen una variedad de tamaños de la cámara, accesorios, técnicas y procesos para la etapa de deposición, y una selección de porta substratos, contención de carga y variantes de bombeo. PhotonExport puede ayudarle encontrar el conjunto adecuado de funciones para sus necesidades específicas.
Equipo industrial metalización
Presentamos una serie de opciones para elegir el equipo de metalización industrial más conveniente. Las características incluyen una opción de movimiento de rotación simple o doble para mejore del rendimiento del sistema, descarga luminiscente con la limpieza previa y tamaños de cámara de 1.700, 1.900 o 2.800 mm de diámetro.