Ion Beam Miling
El ion beam miling es un proceso que consiste en un haz directo de iones que incide sobre un sustrato en una cámara de vacío. Se basa en el intercambio de momentos entre los iones incidentes y los átomos del material objetivo en la colisión. Este sistema proporciona un proceso de alto vacío que consiste en una fuente de iones de haz ancho que irradia toda el área del sustrato mientras éste gira. El ángulo de incidencia del haz puede ajustarse mediante una inclinación de la plataforma del sustrato. El sustrato se enfría durante el proceso de grabado y se utiliza una superficie de sustrato vertical para evitar la la contaminación.
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