PhotonExport Representante Oficial en Equipos de de procesador térmico rápido (RTP), en España y Portugal.
Características del procesador térmico rápido
Es un método de fabricación que consiste en calentar rápidamente los materiales a altas temperaturas para hacer un tratamiento térmico en cuestión de segundos. Alcanzar estas altas temperaturas en poco tiempo se consigue utilizando lámparas de alta intensidad (por ejemplo, lámparas halógenas de tungsteno). Termopares y pirómetros se utilizan para medir la temperatura de las muestras.
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Tras el calentamiento, es necesario controlar perfectamente el enfriamiento para evitar dislocaciones y el choque térmico. Los hornos de procesamiento térmico rápido (RTP) de Annealsys pueden abordar diversas aplicaciones con un rango de temperatura ampliado y capacidad de vacío. Los hornos con lámpara de infrarrojos pueden realizar recocido hasta 1450°C y con una duración de hasta 1 hora a 1200°C. El sistema Zenith de alta temperatura puede realizar procesos a 2000°C durante 1 hora. Las aplicaciones incluyen los procesos de Recocido Térmico Rápido (RTA). (RTA), como el recocido por contacto óhmico y el recocido por implantación. Estos versátiles sistemas RTP pueden procesar muestras desde unos pocos mm² hasta un tamaño de 1,5 metros.
Estos versátiles sistemas RTP pueden procesar muestras desde unos pocos mm² hasta 200 mm de diámetro con carga manual o manipulación robotizada de casete a cassette para la producción, incluyendo soluciones personalizadas para el procesamiento de obleas de semiconductores compuestos con susceptores. El Dr. Tuomo Suntola inventó y patentó el método ALD con fines industriales en Finlandia en 1974 y es miembro de la junta directiva de Picosun. Se trata de un proceso industrial de fabricación de semiconductores que calienta las obleas de silicio a temperaturas superiores a los 1.000°C. Mientras las obleas se enfrían lentamente para evitar dislocaciones y roturas de obleas debido al choque térmico.